A világ második legnagyobb flash-memória gyártója belátható időn belül megkezdi a rekordot jelentő 30 nanométeres technológia bevezetését az előállítás során.

A Toshiba jelenleg éppen a 43 nanométere technológia bevezetésén dolgozik, a Japán központi régiójában található Yokkaichi gyáregységben. A tervek szerint valószínűleg ugyanebben az üzemben vezetik majd be a 30 nanométeres technológiát 2009 végére. A lépés nagy jelentőségű a flash ipar számára, mivel ezzel a hasonló lépésre készülő rivális dél-koreai Samsung jelentős konkurenciát kap, és végül az egész iparág átállását siettetheti a Toshiba döntése. A nanométer a méter egymilliomod része , és az egyre újabb és újabb miniatürizálás több folyamatot is illusztrál. A chipek csíkszélességének csökkentése kisebb energia-felvételt jelent, és olcsóbb előállítási költségeket. A Toshiba szerint a 30 nanométeres technológia jelenlegi gyártási költségeik megfelezését jelenti. Ez természetesen fontos lépés az egyre terjedő flash alkalmazások számára, és végül alacsonyabb árakat jelent a felhasználók részére. Ám egyben mutatja a flash-szektorba vetett általános bizalmat is, mert az ilyen átállások hatalmas költségekkel járnak, tehát csak a változatlanul nagy volumenű, vagy folyamatosan bővülő  gyártásnál hozzák be a beléjük fektetett pénzt.