30 nm-es csip-technológia az IBM-től
2006. február 20.
Tovább folyik a verseny a nagy csipgyártók közt annak a címnek az
elnyeréséért, hogy ki tud több tranzisztort elhelyezni egy adott
szilíciumszeleten: most éppen az IBM rukkolt elő a maga 30 nm-es
technológiájával.
A bejelentésre kevesebb, mint egy hónappal azután került sor, hogy az Intel bejelentette az első 45 nm-es eljárással készült lapkát. Nehezen hihető, hogy technikailag ennél nagyobb precizitás érhető el az optikai litográfia területén, a kék óriás mérnökeinek azonban láthatóan nem szegték kedvét a műszaki akadályok. Az egyes szakemberek által javasolt röntgensugaras módszer helyett az IBM-nél egy különleges folyadékba merítéses metódussal érték el a beégetést végző lézersugarak lelassítását, ami lehetővé tette a még nagyobb pontosságot anélkül, hogy meg kellett volna változtatni a hagyományos gyártási technológiát. Az új technológia azt jelenti, hogy belátható időn belül nem forog komoly veszélyben a számítástechnika alaptételének számító Moore törvény, amely az egységnyi szilíciumfelületen elhelyezett tranzisztorok számának megduplázódását írja elő legalább másfél évente. A sokmagos processzorok terjedésével együtt mindez azt a nézetet erősíti, amely szerint egy-két évtizeden át még leküzdhető lesz a túlmelegedési probléma úgy, hogy eközben egyre nagyobb teljesítményű és viszonylag olcsó processzor áll majd rendelkezésre.
Kapcsolódó cikkek
- IBM, Samsung, Chartered, Freescale, Infineon együttműködés a csipfejlesztésben
- Elegendő sávszélesség a teljes iTunes katalógus letöltéséhez 60 másodperc alatt
- Jönnek a 65nm-es nagy teljesítményű szerver CPU-k
- IBM 5GHz-es Power6 CPU
- Sikerült számítógéppel modellezni egy agyféltekét
- Az IBM megkezdte a 65 nm-es Cell processzor gyártását
- 4-5-6 GHz-es processzorok az ISSCC 2007 konferencián
- Az IBM Power6 processzor újabb részletei
- Alacsony energia-felvételű IBM PowerPC processzorok
- Az IBM megkezdte a processzorok szállítását a Nintendo Wii-hez